紫外可見(jiàn)光分光光度計(jì)由光源室、單色器、樣品室、光電管暗盒、電子系統(tǒng)及數(shù)字顯示器等部件組成，儀器內(nèi)部光路系統(tǒng)。從鎢燈或氫燈發(fā)出的連續(xù)輻射經(jīng)濾色片選擇聚光鏡聚光后投向單色器進(jìn)狹縫，此狹縫正好位 于聚光鏡及單色器內(nèi)準(zhǔn)直鏡的焦平面上，因此進(jìn)入單色器的復(fù)合光通過(guò)平面反射鏡反射及準(zhǔn) 直鏡變成平行光射向色散光柵。光柵將入射的復(fù)合光通過(guò)衍射作用形成按照一定順序均勻排 列的連續(xù)單色光譜，此時(shí)單色光譜重新返回到準(zhǔn)直鏡，然后通過(guò)聚光原理成像在出射狹縫上 。出射狹縫選出帶寬的單色光通過(guò)聚光鏡落在試樣室被測(cè)樣品中心，樣品吸收后透射的 光經(jīng)光門射向光電管陰極面。根據(jù)光電效應(yīng)原理，會(huì)產(chǎn)生一股微弱的光電流。

　　紫外可見(jiàn)光分光光度計(jì)主要由電光系統(tǒng)、光學(xué)系統(tǒng)、光電系統(tǒng)、電子系統(tǒng)和數(shù)據(jù)處理、輸出打印系統(tǒng)等幾個(gè)部分組成。

　　紫外可見(jiàn)光分光光度計(jì)采用一個(gè)可以產(chǎn)生多個(gè)波長(zhǎng)的光源，通過(guò)系列分光裝置，從而產(chǎn)生特定波長(zhǎng)的光源，光源透過(guò)測(cè)試的樣品后，部分光源被吸收，計(jì)算樣品的吸光值，從而轉(zhuǎn)化成樣品的濃度。樣品的吸光值與樣品的濃度成正比。紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)是各種涉及水和廢水分析領(lǐng)域的通用儀器，應(yīng)用范圍包括市政和工業(yè)廢水，飲用水，加工過(guò)程用水，地表水，冷卻水和鍋爐補(bǔ)給水等。

　　紫外可見(jiàn)光分光光度計(jì)安裝環(huán)境的要求有：

　　(1)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境要求：主要包括環(huán)境溫濕度、環(huán)境潔凈狀況、光及磁場(chǎng)干擾等。具體要求如下：

　　①環(huán)境溫濕度  儀器應(yīng)安放在干燥的房間內(nèi)，使用溫度為5～35℃，相對(duì)濕度不超過(guò)85%，應(yīng)控制在45%～65%，無(wú)冷凝。如有條件，應(yīng)配備去濕機(jī)（空調(diào)）、濕度計(jì)等，在相對(duì)濕度較大的地區(qū)應(yīng)在儀器周圍放一些干燥劑。

　?、跓o(wú)強(qiáng)光干擾及磁場(chǎng)干擾  室內(nèi)照明不宜太強(qiáng)，且避免直射日光的照射。儀器應(yīng)盡量遠(yuǎn)離高強(qiáng)度的磁場(chǎng)、電場(chǎng)及發(fā)生高頻波的電器設(shè)備，防電磁干擾。

　?、鄯乐垢g性氣體  避免在有硫化氫、：二氧化硫以及各種酸霧等腐蝕性氣體的場(chǎng)所使用，以免侵蝕儀器的約部件。

　　在使用紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)時(shí)，需要注意一些使用的維護(hù)措施：

　　1、使用的吸收池必須潔凈，并注意配對(duì)使用。量瓶、移液吸管均應(yīng)校正、洗凈后使用。

　　2、取吸收池時(shí)，手指應(yīng)拿毛玻璃面的兩側(cè)，裝盛樣品以池體的4/5為度，使用揮發(fā)性溶液時(shí)應(yīng)加蓋，透光面要用擦鏡紙由上而下擦拭干凈，檢視應(yīng)無(wú)溶劑殘留。吸收池放入樣品室時(shí)應(yīng)注意方向相同。用后用溶劑或水沖洗干凈，晾干防塵保存。

　　3、供試品溶液濃度除各該品種已有注明外，其吸收度以在0.3～0.7之間為宜。

　　4、測(cè)定時(shí)除另有規(guī)定外，應(yīng)以配制供試品溶液的同批溶劑為空白對(duì)照，采用1cm石英吸收池，在規(guī)定的吸收峰±2nm以內(nèi)，測(cè)幾個(gè)點(diǎn)的吸收度或由儀器在規(guī)定的波長(zhǎng)附近自動(dòng)掃描測(cè)定，以核對(duì)供試品的吸收峰位置是否正確，并以吸收度zui大的波長(zhǎng)作為測(cè)定波長(zhǎng)，除另有規(guī)定外吸收度zui大波長(zhǎng)應(yīng)在該品種項(xiàng)下規(guī)定的測(cè)定波長(zhǎng)±2nm以內(nèi)。

　　5、選用儀器的狹縫寬度應(yīng)小于供試品吸收帶的半寬度，否則測(cè)得的吸收度值會(huì)偏低，狹縫寬度的選擇應(yīng)以減少狹縫寬度時(shí)供試品的吸收度不再增加為準(zhǔn)，對(duì)于大部分被測(cè)品種，可以使用2nm縫寬。